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深圳擴維原子科技有限公司
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大尺寸 窄分布

設備可制備小至單原子,大至直徑大于10nm團簇

無質量選擇條件下,團簇直徑分布小于±10%

廣材料種類

可制備大部分金屬,部分半導體、絕緣體團簇

原子氣產生

可配備蒸發(fā)源、磁控濺射、火花燒蝕等產生源

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冷凝腔 多沉積

液氮、水冷;氣壓、溫度可控;冷凝距離可調

兼容金屬、玻璃、陶瓷、聚合物等襯底或粉末

高束流 穩(wěn)能量

典型金屬團簇束流>1nA;其他團簇束流>100pA

精確可調,可實現團簇軟著陸沉積、高能撞擊

計算機控制

功能軟件控制,運行日志存檔,實驗參數調用

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圖片2
深圳擴維原子科技有限公司開發(fā)的原子精確團簇束流系統(tǒng),通過“原子產生+氣相凝聚+質譜分選”的自下而上原子級制造技術,在氣相中合成納米團簇?;诮?0年的深入研究與超過15臺(套)設備的技術迭代,解決了高效率原子級精確操控的科學問題與團簇束流流量即團簇材料產能放大的技術問題,可以實現普適的元素精確、原子數精確以及原子排列結構精確團簇材料的高速率制造,兼容襯底、粉末、溶液等沉積方式,并可以根據您的要求進行定制。
原子精確團簇
束流設備
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團簇束流設備
質量選擇
深圳擴維原子科技有限公司_原子精確團簇束流系統(tǒng)
· 掃描沉積系統(tǒng):
· 粉末沉積系統(tǒng):
· 多元原子產生:
· 復合材料沉積:
· 超高質量分辨:
· 原子結構選擇:
· 原子捕獲添加:
· 定制超高真空:
真空內厘米級多軸移動平臺,實現團簇的掃描沉積。
通過振動、流化等分散方式,實現團簇的粉末沉積。
集成2~3個磁控陰極,濺射多個靶材以形成合金團簇。
沉積腔配備蒸發(fā)源共沉積原子/薄膜,形成復合材料。
可定制反射式飛行時間質譜,串聯三重四極桿質譜。
可定制斯特恩-蓋拉赫,利用磁場梯度實現結構選擇。
可定制離子阱+蒸發(fā)源,實現團簇束流在線捕獲原子。
整體設備系統(tǒng)可以定制達到超高真空標準(可烘烤)。
附加功能
深圳擴維原子科技有限公司_原子精確團簇束流系統(tǒng)
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原子數選擇金團簇沉積
結構調控金團簇沉積
案例展示
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